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上海巖征生產的光化學高壓反應釜，使用溫度300℃內，使用壓力：10mpa,適用于光化學高壓反應、二氧化碳（CO2）還原、二氧化碳（CO2）還原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）還原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域
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